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低壓擴(kuò)散工藝

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低壓擴(kuò)散工藝

發(fā)布日期:2020-05-21 作者: 點(diǎn)擊:

可能大家對于低壓擴(kuò)散石英管并不是很了解,下面就和小編一起來探討一下什么是低壓擴(kuò)散的工藝手法。

管式爐特別是臥式擴(kuò)散爐是光伏與半導(dǎo)體生產(chǎn)線前工序的重要工藝設(shè)備之一, 廣泛適用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、太陽能電池、光電器件和光導(dǎo)纖維等行業(yè)的擴(kuò)散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝,可用于2-8英寸工藝尺寸。

低壓擴(kuò)散石英管

下面簡單介紹管式爐適用的工藝:

一、擴(kuò)散工藝的主要用途是在高溫條件下對半導(dǎo)體晶圓進(jìn)行摻雜,即將元素磷、硼擴(kuò)散入硅片,從而改變和控制半導(dǎo)體內(nèi)雜質(zhì)的類型、濃度和分布,以便建立起不同的電特性區(qū)域。

常用的低壓磷擴(kuò)散利用低壓氛圍可以得到更好的方塊電阻均勻性和更大的生產(chǎn)批量,同時(shí)對環(huán)境的影響最小。

二、氧化工藝是使硅片表面在高溫下與氧化劑發(fā)生反應(yīng),生長-層二氧化硅膜。 氧化方法有干氧和濕氧,濕氧包括水汽氧化和氫氧合成兩種,對硅片或器件起保護(hù)、鈍化、絕緣、緩沖介質(zhì)等作用。

三、退火工藝包含雜質(zhì)退火(氧化層退火、注入后返火等等)和金屬退火,雜質(zhì)退火兩個(gè)目的,修復(fù)晶格激活雜質(zhì)元素,工藝溫度比較高;金屬退火比較復(fù)雜,主要目的是解決金屬與物質(zhì)的接觸和填充問題,每種退火的原理與適用材料也有所區(qū)別。

四、合金工藝主要是形成歐姆接觸或者形成鍵合區(qū)。。

五、燒結(jié)工藝主要應(yīng)用于電真空、航空航天、電力電子、機(jī)械加工;可對不銹鋼、無氧銅、金屬化陶瓷件等不同零件進(jìn)行無氧化釬焊、退火、燒結(jié)及對薄膜、厚膜電路、混膜集成電路等在氫氣、氮?dú)饣驓涞旌蠚怏w的保護(hù)下,對工件進(jìn)行焊接,封裝和燒結(jié)等。

低壓擴(kuò)散石英管

擴(kuò)散爐是光伏與半導(dǎo)體集成電路工藝的基礎(chǔ)設(shè)備,它與光伏半導(dǎo)體工藝互相依存、互相促進(jìn)、共同發(fā)展。

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